منشور أكاديمي
Étude des procédés HWCVD : Principes, Mécanismes et Applications
KHELEF Nour
المعلومات الببليوغرافية
- تاريخ النشر
- 2026
- اللغة
- Français
- ISBN
- 978-9969-677-76-8
- الصفحات
- 68
- المجال
- Sciences et Technologies
الملخص
Cet ouvrage, intitulé « Étude des procédés HWCVD : Principes, Mécanismes et Applications », présente de manière progressive les fondements du dépôt chimique en phase vapeur assisté par filament chaud. Il introduit d’abord les couches minces, les propriétés du diamant et les principales techniques de dépôt CVD et PVD. Il explique ensuite le fonctionnement du procédé HWCVD, fondé sur la dissociation thermique des gaz précurseurs par un filament chauffé, ainsi que les mécanismes de nucléation et de croissance du diamant. L’ouvrage analyse aussi l’influence de paramètres comme la température, la pression, la composition gazeuse et le transport de matière. Enfin, il présente les avantages, les limites, la modélisation et les applications du HWCVD dans plusieurs domaines scientifiques et industriels, notamment électroniques et énergétiques.
المؤلفون والمساهمات
KHELEF Nour
الاقتباس المقترح
KHELEF Nour (2026). Étude des procédés HWCVD : Principes, Mécanismes et Applications. SARAHMED Éditions.
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